寂静的气氛持续了有几十秒，似乎连喘气声都清晰可见。

赵思远看着手中这一沓文件，一脸懵逼道：“张院长你没在开玩笑吧？”

“光刻机？DuV技术光刻机？我们几时有这一种技术了？”

别说浸润式DuV光刻机，更别说什么32nm的制程，目前他们夏微电子也只能做到90nm制程的投影式光刻机罢了。

结果你告诉他，现在夏科院拥有32nm的DuV光刻机技术？这是在开哪门子的玩笑？

都不能算是跨越式发展了，而是直接一飞冲天到了外太空。

“你先看看就知道了。”张予理颔首笑道。

“那我先看看吧.”

赵思远拧巴着眉头，带着疑惑打开了这一份文件。

看面倒是没有介绍什么研制方式，毕竟那实在是太过于繁琐了，而是一些十分简单的综述。

然而，既然如此他只是瞥了一眼上面写的描述，立刻脸上呆滞住了。

利用26mm*8mm狭缝扫描，令晶圆片与掩膜版同步动态扫描.使其达成26mm*33mm曝光场.技术实施路线为：.

利用多重曝光技术.三重曝光（LeLeLe）使其拆分为多个掩膜版上，使其图像雕刻密度迭加，工艺制程成倍提升，实施手段为：

尽管只是粗略的看了几眼，但是从这些综述上而言他并没有发现太大问题。

赵思远迅速翻阅了下面几十页的草稿纸，整个人瞬间沉浸于这茫茫多的公式与介绍当中。

时间一分一秒的过去，他每翻阅下一页的速度就会更加的缓慢，甚至有时候还会盯着几个公式琢磨大半天。

旁边的张予理和郑立行两人倒是没有着急，倒上两杯茶水慢慢自酌自饮起来。